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Patterned deposition at moving contact line
Thiele U
Forschungsartikel (Zeitschrift)
| Peer reviewed
Details zur Publikation
Fachzeitschrift:
Advances in Colloid and Interface Science
Jahrgang / Bandnr. / Volume:
206
Seitenbereich:
1-45
Status:
Veröffentlicht
Veröffentlichungsjahr:
2014
Sprache, in der die Publikation verfasst ist:
Englisch
DOI:
10.1016/j.cis.2013.11.002
Autor*innen der Universität Münster
Thiele
,
Uwe
Professur für Theoretische Physik (Prof. Thiele)
Center for Nonlinear Science (CeNoS)
Center for Multiscale Theory and Computation (CMTC)